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國林科技:公司半導體臭氧發生裝置多用于Fab工廠的晶圓制造環節

每日經(jing)濟新聞 2022-08-03 16:53:56

每經AI快訊,有投資者在投資者互(hu)動(dong)平臺提問:請問公司的半導體臭(chou)氧(yang)發(fa)生裝置是(shi)(shi)用(yong)在芯片(pian)制造的什么環(huan)節(jie)啊?是(shi)(shi)晶圓廠、封(feng)裝廠還(huan)是(shi)(shi)光刻(ke)廠?

國(guo)林科技(300786.SZ)8月3日在投資者互動平臺(tai)表示,公(gong)司半導體(ti)臭氧(yang)發生裝置(zhi)多用于Fab工(gong)廠的晶圓制造環節,主要提供清洗、氧(yang)化、薄膜(mo)沉積工(gong)藝(yi)制程的應用。

(記者 蔡鼎)

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