每日經濟(ji)新(xin)聞 2022-11-03 17:37:47
每經AI快訊(xun)，有(you)投(tou)資(zi)者(zhe)在投(tou)資(zi)者(zhe)互動平臺提問：公(gong)司自主研發國產光刻機(ji)幾納米(mi)制程？
大族激光（002008.SZ）11月3日(ri)在投資者(zhe)互動平臺(tai)表示，公司(si)自主(zhu)(zhu)研發的(de)光刻機(ji)項目分(fen)辨(bian)率為2-3 μm，主(zhu)(zhu)要聚焦在分(fen)立器件、LED等領域的(de)應(ying)用。
(記者 畢陸名)
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