每經記(ji)者｜朱成祥(xiang)    每經編輯｜陳俊杰(jie)    

近(jin)期，資本市場對于(yu)光刻(ke)機(ji)的關注(zhu)持續火熱。此前受(shou)益于(yu)“光刻(ke)機(ji)”概念，張江高(gao)科（600895.SH，股(gu)價23.61元(yuan)，市值365.65億元(yuan)）等(deng)多股(gu)連續上漲。

9月14日，隨著蘇大(da)維格在互動易回復光刻機(ji)相(xiang)關問(wen)題，“納米壓(ya)印”概念迅速(su)火熱。午后，蘇大(da)維格股價迅速(su)拉升，并實(shi)現20%漲停。

彼時，蘇大維格表示：“公司(si)光(guang)刻機(ji)(ji)已(yi)(yi)實(shi)現(xian)向(xiang)國(guo)(guo)內龍頭芯片企(qi)業的銷售，并已(yi)(yi)實(shi)現(xian)向(xiang)日本、韓國(guo)(guo)、以(yi)色列等國(guo)(guo)家的出口；同時，公司(si)向(xiang)國(guo)(guo)內相關芯片光(guang)刻機(ji)(ji)廠商提供了定位光(guang)柵尺部件。”

據(ju)蘇(su)大維格(ge)在互動易所述，其(qi)光刻機(ji)(ji)產品(pin)為激(ji)光直(zhi)寫光刻機(ji)(ji)。對于該類型光刻機(ji)(ji)的(de)用途，《每日經濟新聞》記者9月15日咨詢了與非網副主編夏珍(zhen)，其(qi)表示：“據(ju)我所知，激(ji)光直(zhi)寫光刻機(ji)(ji)是(shi)用于掩(yan)膜(mo)(mo)版的(de)制造，替代(dai)傳統(tong)的(de)鉻(ge)玻(bo)璃掩(yan)膜(mo)(mo)版，具有(you)靈活性高的(de)特(te)點(dian)，與平常我們所說的(de)光刻機(ji)(ji)不是(shi)一回事兒。”

9月(yue)15日早間，蘇(su)大(da)維格便收到(dao)深(shen)交所關(guan)注函。不過，截至午間收盤，蘇(su)大(da)維格報37.47元(yuan)/股，上漲(zhang)13.13%。

此光刻機非彼光刻機

傳統光刻(ke)(ke)(ke)機(ji)包括(kuo)EUV（極(ji)紫(zi)外(wai)）光刻(ke)(ke)(ke)機(ji)、DUV（深紫(zi)外(wai)）光刻(ke)(ke)(ke)機(ji)。此外(wai)，更(geng)早也(ye)有i線和g線光刻(ke)(ke)(ke)機(ji)。上(shang)述均屬(shu)于(yu)較為(wei)先進的半導(dao)體(ti)光刻(ke)(ke)(ke)機(ji)。除了(le)半導(dao)體(ti)用(yong)，光刻(ke)(ke)(ke)機(ji)也(ye)用(yong)于(yu)面(mian)板(ban)、PCB（印刷電路(lu)板(ban)）的制造中(zhong)。

自蘇大維(wei)格稱(cheng)已(yi)實(shi)現向國(guo)內(nei)龍頭芯片企業(ye)的(de)銷(xiao)售后，有(you)投(tou)資(zi)者也追(zhui)問：“公(gong)司光刻(ke)設備對比全世界(jie)同行業(ye)處于(yu)什么階段？未來有(you)沒(mei)有(you)和國(guo)內(nei)同行合作研發(fa)制造光刻(ke)機計劃？”

對此，蘇大(da)維格解釋：“在大(da)類上(shang)，光刻(ke)(ke)(ke)機(ji)主(zhu)要有兩種類型。第一(yi)類是掩(yan)膜(mo)光刻(ke)(ke)(ke)機(ji)，如ASML的EUV設備，好比‘復印(yin)機(ji)’，把掩(yan)膜(mo)上(shang)的圖形投射到(dao)硅片(pian)上(shang)，可用于各(ge)類芯片(pian)的批量(liang)生產，這(zhe)類光刻(ke)(ke)(ke)機(ji)技術工(gong)藝和(he)材料難度極高(gao)；第二(er)類是無(wu)掩(yan)膜(mo)光刻(ke)(ke)(ke)機(ji)，也稱直寫光刻(ke)(ke)(ke)機(ji)，包括激光直寫光刻(ke)(ke)(ke)機(ji)和(he)電子束(shu)光刻(ke)(ke)(ke)機(ji)等，用于直接將(jiang)數據轉(zhuan)變成相關圖形，好比‘打印(yin)機(ji)’，可用于芯片(pian)/液晶掩(yan)膜(mo)、光模具及其他微(wei)結構的制備。”

關注函中，深交所也要求蘇大(da)(da)維格結合(he)不(bu)同類型光刻(ke)設(she)備的技術路(lu)線的差異，補充披露公司所生產光刻(ke)設(she)備的具(ju)體類型、主要客戶及下游用(yong)(yong)途、以及最近一年一期(qi)境(jing)內(nei)外銷(xiao)售情況，并核實說明公司光刻(ke)設(she)備是(shi)否(fou)能夠直接用(yong)(yong)于芯片研(yan)發及制造、主要技術參數是(shi)否(fou)與業內(nei)龍頭廠(chang)商(shang)存在(zai)較大(da)(da)差距，并進一步(bu)提示相關風(feng)險。

在(zai)(zai)上(shang)述投資者關系平臺回復中，蘇大(da)維(wei)格(ge)曾表示：“目(mu)前，公司對(dui)外銷售(shou)(shou)的光(guang)刻(ke)機主要(yao)為激光(guang)直寫光(guang)刻(ke)機，其中在(zai)(zai)科研教育領域(yu)具(ju)有(you)一(yi)定(ding)的知(zhi)名度(du)和(he)市場占有(you)率，在(zai)(zai)其他(ta)行(xing)業(ye)和(he)領域(yu)已實現(xian)的銷售(shou)(shou)金額相對(dui)較小(xiao)，部分應用領域(yu)離國(guo)際先(xian)進(jin)水平具(ju)有(you)一(yi)定(ding)差距，需要(yao)持續的研發投入。”

“納米壓印”能否替代傳統光刻？

除了光(guang)刻(ke)機的銷(xiao)售信(xin)息，蘇大(da)維格(ge)9月14日(ri)還提及“納(na)米(mi)壓(ya)印(yin)”技(ji)術。在回復“納(na)米(mi)壓(ya)印(yin)技(ji)術有沒(mei)有替代EUV光(guang)刻(ke)機的可能性(xing)”時，蘇大(da)維格(ge)稱(cheng)：“根據相關資(zi)訊(xun)，佳(jia)能等(deng)國際廠(chang)商擬試(shi)圖通過納(na)米(mi)壓(ya)印(yin)技(ji)術在部(bu)分(fen)集(ji)成(cheng)電路領域(yu)替代EUV光(guang)刻(ke)設備(bei)實現更低成(cheng)本的芯片量產(chan)。”

此外，蘇大維格也表示：“納米壓(ya)印光(guang)刻領域，公(gong)司設備主要為自(zi)用(yong)，對外銷售金額與(yu)直(zhi)寫(xie)光(guang)刻機(ji)相比較小。”

也就是(shi)說，蘇(su)大(da)維格對外銷售的(de)光刻(ke)機主(zhu)要是(shi)直寫光刻(ke)機，納(na)米壓印主(zhu)要是(shi)自用。

那么(me)，蘇大維格(ge)自(zi)身擁有“納米壓印”技術嗎？深交所要求(qiu)其說明：“你公司納米壓印技術的(de)具(ju)體用途、研(yan)發(fa)情況，以(yi)及在(zai)集(ji)成電路領(ling)域的(de)布局情況，并充分(fen)提示相(xiang)關風險。”

關于(yu)納(na)米(mi)壓(ya)(ya)(ya)印技(ji)(ji)術(shu)(shu)能否替代EUV光(guang)刻(ke)機，夏珍向記者解釋：“納(na)米(mi)壓(ya)(ya)(ya)印可潛在替代EUV、DUV。當DUV（技(ji)(ji)術(shu)(shu)）再往下走，日(ri)本廠商并沒有選擇EUV，而是采(cai)用了‘納(na)米(mi)壓(ya)(ya)(ya)印’（Nanoimprint Lithography，NIL）技(ji)(ji)術(shu)(shu)，來開發(fa)新一代的(de)設(she)備。納(na)米(mi)壓(ya)(ya)(ya)印技(ji)(ji)術(shu)(shu)和現(xian)在市(shi)場(chang)上的(de)光(guang)刻(ke)技(ji)(ji)術(shu)(shu)有所不同。基于(yu)光(guang)學的(de)曝光(guang)機，也就(jiu)是我們(men)常說的(de)光(guang)刻(ke)機，從(cong)Reticle（掩膜版(ban)）到晶圓是4：1的(de)縮(suo)小比例(li)，而納(na)米(mi)壓(ya)(ya)(ya)印技(ji)(ji)術(shu)(shu)下的(de)Reticle選用特(te)殊加(jia)工(gong)方法，從(cong)Reticle到晶圓是等(deng)比例(li)的(de)。這意味(wei)著只要Reticle能做到5nm，就(jiu)能壓(ya)(ya)(ya)印出5nm的(de)東西(xi)。”

夏(xia)珍補充表示：“此外，采用納(na)米壓(ya)印技術的成本(ben)(ben)較低，低成本(ben)(ben)主(zhu)要體現在(zai)(zai)兩個方面，一是(shi)設備本(ben)(ben)身的成本(ben)(ben)低，二是(shi)在(zai)(zai)使用的過程中用電量低。”

那么(me)，納米(mi)壓印(yin)技(ji)術(shu)目前(qian)進展(zhan)如何呢？夏珍介紹：“目前(qian)基于納米(mi)壓印(yin)技(ji)術(shu)的(de)設(she)備還沒量產(chan)，處于量產(chan)評價階段，但從(cong)實(shi)驗室的(de)角度(du)來(lai)看，已經實(shi)現了10+nm，未來(lai)將(jiang)進一步拓(tuo)展(zhan)至5nm。”

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