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蘇大維格:可為國內外高等院所和企業提供自主可控的直寫光刻技術和光電子材料與器件技術方案

每日經濟新聞 2023-12-11 08:43:19

蘇大維格(300331.SZ)12月10日在投資者互動平(ping)臺表示,公(gong)(gong)司激光(guang)(guang)(guang)直寫(xie)光(guang)(guang)(guang)刻(ke)系列設備(bei),可(ke)為國內外高等(deng)院所和(he)(he)(he)企業提(ti)供自主(zhu)可(ke)控的(de)直寫(xie)光(guang)(guang)(guang)刻(ke)技(ji)術(shu)和(he)(he)(he)光(guang)(guang)(guang)電子材料與(yu)器件(jian)(jian)技(ji)術(shu)方(fang)案,包括(kuo)微(wei)納光(guang)(guang)(guang)學材料、MEMS產品(pin)、射頻(pin)器件(jian)(jian)、濾波器件(jian)(jian)等(deng)產品(pin)的(de)研發與(yu)制(zhi)(zhi)造(zao),也可(ke)為今后裸眼(yan)3D顯示、光(guang)(guang)(guang)子晶(jing)體、半(ban)導體功率芯片等(deng)研發和(he)(he)(he)制(zhi)(zhi)備(bei)等(deng)方(fang)面,提(ti)供前沿性(xing)和(he)(he)(he)實用性(xing)納米(mi)光(guang)(guang)(guang)刻(ke)工(gong)具。公(gong)(gong)司相關(guan)設備(bei)收入占比較低,請注(zhu)意風險,詳細情況(kuang)您(nin)還可(ke)參見公(gong)(gong)司定(ding)(ding)期報告、官方(fang)網站、官方(fang)微(wei)信公(gong)(gong)眾號等(deng)相關(guan)信息,同(tong)時提(ti)請您(nin)注(zhu)意相關(guan)技(ji)術(shu)推廣與(yu)應用過程(cheng)中存在的(de)不確定(ding)(ding)風險

(記者 蔡鼎)

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